China berjaya membina prototaip mesin EUV (ultra ungu ekstrem) buatan tempatan pada awal tahun ini menurut laporan Reuters. Mesin berjaya dibina di sebuah makmal sekuriti tinggi di Shenzen dengan bantuan bekas jurutera ASML dan dengan ini membolehkan China membina industri cip mereka sendiri tanpa bantuan atau campur tangan negara luar. Menurut laporan, walaupun mesin EUV berjaya dibina ia masih belum boleh digunakan untuk menghasilkan cip.
Dengan kejayaan ini, China mungkin akan dapat menghasilkan cip teknologi sendiri seawal 2028 atau selewat-lewatnya 2030. Selepas dikenakan pelbagai halangan import perkakasan menghasilkan cip oleh Amerika Syarikat dan sekutunya, China memulakan program membangunkan teknologi cip tempatan dalam tempoh enam tahun.
Mesin EUV terkini dunia hanya dihasilkan oleh ASML dengan ia digunakan oleh kilang fabrikasi TSMC di Taiwan. Syarikat China seperti Huawei tidak boleh mengakses teknologi TSMC menyebabkan pengeluaran cip Kirin terhenti selama beberapa tahun. Dengan bantuan SMIC ia berjaya dimulakan semula menggunakan mesin teknologi DUV (ultra ungu dalam) yang adalah satu generasi ke belakang dua tahun lalu.
Mesin EUV diperlukan untuk menghasilkan litar pada permukaan cip dengan kejituan nanometer. Sebelum ini CEO ASML Christophe Fouquet dipetik mengatakan China memerlukan masa yang lama untuk menghasilkan mesin EUV mereka sendiri.
Antara taktik yang digunakan untuk melambatkan usaha China membangunkan industri cip kendiri ialah menghalang pelajar negara tersebut daripada mempelajari subjek berkaitan pembangunan cip semikonduktor di Belanda dan membatalkan visa pelajar yang mengambil subjek kritikal di Amerika Syarikat.
