Intel Menggunakan Kelengkapan Litografi High-NA EUV Oleh ASML Untuk Membantu Menghasilkan Cip Mereka

Technology
15 Jul 2026 • 2:07 PM MYT
Amanz
Amanz

Amanz merupakan laman berita dunia teknologi serta ulasan peranti terkini.

Seperti yang sedia maklum, Intel merupakan salah satu daripada beberapa syarikat di dunia yang hadir dengan kemampuan untuk mereka, mencipta, menghasilkan dan mengilangkan cip-cip semikonduktor mereka sendiri. Terkini, dengan siri cip pemprosesan komputer riba Intel Core Ultra 300 “Panther Lake” terbaru, mereka menggunakan proses 18A mereka sendiri untuk menghasilkan cip pemprosesan tersebut.

Syarikat-syarikat seperti Intel, Samsung, SK Hynix dan TSMC semuanya menggunakan kelengkapan litografi EUV (Extreme Ultra Violet) untuk “mengukir” litar pada permukaan transistor untuk menghasilkan cip-cip ini, dan sehingga kini, kelengkapan EUV biasa adalah mencukupi dari segi prestasi dan output pengeluaran cip semikonduktor sedia ada.

Image from: Intel Menggunakan Kelengkapan Litografi High-NA EUV Oleh ASML Untuk Membantu Menghasilkan Cip Mereka

Walaupun begitu, transistor kelak akan hadir dengan saiz yang semakin mengecil, dan untuk ini, kelengkapan litografi High NA (Numerical Aperture) EUV akan perlu digunakan kelak oleh syarikat-syarikat ini. Intel merupakan salah satu yang memiliki sebuah mesin litografi High NA yang dihasilkan oleh ASML, yang memperlihatkan nilai setinggi $300-$400 juta untuk setiap satu mesin.

Image from: Intel Menggunakan Kelengkapan Litografi High-NA EUV Oleh ASML Untuk Membantu Menghasilkan Cip Mereka

Menurut laporan Reuters, Intel telahpun menerima mesin litografi High NA EUV dan bereksperimen dengan penggunaannya sejak tahun 2024, dan kini nampaknya telahpun mula menggunakan mesin tersebut untuk menghasilkan beberapa lapisan cip pemprosesan Panther Lake terbaru mereka untuk mempercepatkan proses pengeluaran cip pemprosesan tersebut.

Proses ini dilaporkan adalah untuk membantu Intel mengadaptasi penggunaannya untuk proses-proses baharu akan datang seperti 14A dan juga untuk ASML supaya mereka dapat mengumpul data yang berguna untuk memperbaiki prestasi kelengkapan litografi mereka.

Sumber: Reuters

Newswav Malaysia Best News App

Newswav is an online content aggregator and obtains its content from different online sources. The content in the app do not belong to Newswav nor do they reflect the opinions of Newswav and its staff. Your use of this app indicates your understanding and acceptance of this information.

Newswav Sdn. Bhd. (201701008480 (1222645-M)) 2026 All Rights Reserved